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  • CVD轉(zhuǎn)移生長MX2單分子膜

    Substrate: Sapphire (c-cut) Quartz (Silica) TEM grids (please supply grids) Thermal Oxide (SiO2/Si) Polyethylene terephthalate – PET Substrates Pick your own substrates (please define the substrate ty

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:7579.65
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):856
  • CVD缺陷生長二維層

    Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses.

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:8900
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):816
  • 基于SiO2/Si晶片的雙層CVD石墨烯薄膜

    基于SiO2/Si晶片的雙層CVD石墨烯薄膜 將兩層單層CVD石墨烯膜轉(zhuǎn)移 到285nm p摻雜的SiO 2 / Si晶片上 尺寸:1cmx1cm; 8片 將每個(gè)石墨烯膜連續(xù)轉(zhuǎn)移到晶片上 我們的石墨烯薄膜的厚度和質(zhì)量由拉曼光譜控制 該產(chǎn)品的石墨烯覆蓋率約為98% 石墨烯薄膜是連續(xù)的,具有小孔和有機(jī)殘留物 每個(gè)石墨烯薄膜主要是單層(超過95%),偶爾有少量多層(低于5%的雙層) 由于沒有A-B堆疊

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:7140.25
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):897
  • 德國2DNext大面積機(jī)械剝離2L/3L材料

    德國2D Next主要提供機(jī)械剝離的超大尺寸二維材料,可以提供在眾多基底上的轉(zhuǎn)移技術(shù),如二氧化硅,藍(lán)寶石,CVD金剛石等,可用材料包括MoS2,MoSe2,WS2,WSe2等,提供三種尺寸的機(jī)械剝離2L/3L材料,分別為50um,75um,100um

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:13520
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • CVD GaSe

    Chemical vapor deposited (CVD) GaSe films have been synthesized at our facilities in 2019. Bulk GaSe is a 2.0 eV direct semiconductor with exciting second harmonic, optical.

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:6481.15
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 定制單層二硫化鉬-帶電極

    1.將單層硫化鉬轉(zhuǎn)移至襯底(襯底可根據(jù)客戶需求選定)$n2.邊長15um (三角形)片內(nèi)層數(shù)均勻$n3.襯底上轉(zhuǎn)移3個(gè)(數(shù)量可定制)帶電極的單層硫化鉬樣品$n4.電極間距:~5um

    更新時(shí)間:2024-06-03
    產(chǎn)品價(jià)格:7200
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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